【觀察者網(wǎng)TMT報道】4月28日，荷蘭芯片光刻設備供貨商阿斯麥（ASML）宣布針對尼康（Nikon）在半導體生產(chǎn)設備、平面顯示器和數(shù)碼相機生產(chǎn)設備等多款產(chǎn)品上存在超過10項專利侵權一事提出反訴。這是繼尼康4月24日宣布向ASML提起訴訟后的一項行動，ASML已斷然否認尼康的指控。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示：“我們在別無選擇的情況下提起反訴。多年來，我們曾多次試圖與尼康就交叉授權協(xié)議延展一事進行協(xié)商，但尼康沒有為此做出任何真正的努力，反而選擇控告ASML專利侵權，公司對此感到失望。”

Peter進一步強調(diào)，ASML始終相信，雙方能以協(xié)商的方式來解決，對半導體產(chǎn)業(yè)而言是好的，可以推動產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新與合作，更可減少這類讓產(chǎn)業(yè)無法集中精力在真正重要事情上的不必要專利訴訟案件，且尼康提起的訴訟毫無根據(jù)，這將為整個半導體產(chǎn)業(yè)帶來不確定性。

此前4月24日，尼康宣布在荷蘭、德國與日本針對ASML和合作伙伴卡爾蔡司（Carl ZeissAG）的專利侵權提起訴訟，并表示ASML及卡爾蔡司兩家公司在未經(jīng)尼康的許可下將其微影（lithography）技術專利用于光刻機上，并運用在半導體制造業(yè)中。尼康在訴訟文件中稱，要求ASML和卡爾蔡司對未授權使用專利技術而做出賠償。

過去，ASML曾多次面對尼康提出的專利侵權指控。尼康在2001年向美國國際貿(mào)易委員會提起指控。兩年后，該委員會認為ASML并無侵權，并就全部15項指控判決ASML勝訴。

2004年，ASML和尼康簽訂了一項專利交叉授權協(xié)議，部分專利已獲永久授權，其他專利的授權日期已于2009年12月31日結(jié)束，雙方同意互不采取法律移動的過渡期也在2014年12月31日結(jié)束。

尼康表示，之所以提起訴訟，是因為ASML和卡爾蔡司兩家公司在授權期限和專利權的過渡期到期之后，雙方在協(xié)商延長交叉許可協(xié)議未達成。

尼康曾在半導體設備產(chǎn)業(yè)叱咤一時，是全球第八大半導體設備廠商。1993年尼康的半導體曝光設備全球市占率達48.4%，幾乎在市場稱王。1984年設立的ASML，在創(chuàng)建初期遠遠不及尼康。然而尼康好景不常，至2000年左右，ASML市占率開始快速攀升，最后不僅超越尼康。

目前在全球的半導體設備市場中，ASML主導半導體光刻機的產(chǎn)品。根據(jù)惠譽評級在2017年1月份的一份研究報告中指出，這家荷蘭公司在這樣的高端的半導體設備中，占有90%的市場占有率。而根據(jù)ASML在19日所公布的2017年第1季財報顯示，第1季營收凈利達19.4億歐元，毛利率為47.6%，EUV極紫外光微影系統(tǒng)的未出貨訂單則累積到21臺，價值高達23億歐元。而且預估ASML在2017第2季營收凈利將落在19到20億歐元之間，毛利率約為43%到44%。

而尼康則每況愈下，根據(jù)其公布的2017財年第三季度財報（2016年4月1日~12月31日）顯示，營業(yè)利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。