觀察員
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三星首次披露3nm量產(chǎn)時(shí)間之際，臺(tái)積電2nm傳出“重大突破”
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呂棟寧靜致遠(yuǎn)。
最后更新: 2020-11-19 13:56:54臺(tái)積電2nm“取得突破”
當(dāng)然，臺(tái)積電也不會(huì)“坐以待斃”。
臺(tái)媒近日的報(bào)道顯示，臺(tái)積電在2nm制程上取得一項(xiàng)重大突破，有望在2023年下半年進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn)，2024年步入量產(chǎn)。
臺(tái)積電表示，2nm的突破將再次拉大與競爭對手的差距，同時(shí)延續(xù)摩爾定律，繼續(xù)進(jìn)行1nm工藝的研發(fā)。該公司預(yù)計(jì)，蘋果、高通、英偉達(dá)、AMD等客戶有望率先采用其2nm工藝。
圖片來源：臺(tái)灣《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》
根據(jù)該報(bào)道，臺(tái)積電2nm將放棄延用多年的FinFET( 鰭式場效應(yīng)晶體管 )，也不計(jì)劃采用三星在3nm上使用的GAAFET ( 環(huán)繞柵極場效應(yīng)晶體管 )，而是采用MBCFET( 多橋通道場效應(yīng)晶體管 )。
這一技術(shù)能夠大大改進(jìn)電路控制，降低漏電率。
與此同時(shí)，一些分析師也在質(zhì)疑，三星是否有能力在臺(tái)積電主導(dǎo)的市場中占據(jù)相當(dāng)大的份額。
彭博社報(bào)道指出，臺(tái)積電每年花費(fèi)約170億美元，以確保自己在技術(shù)和產(chǎn)能方面都處于領(lǐng)先地位。至于三星，其半導(dǎo)體部門計(jì)劃在2020年投入260億美元，但主要為了支持占主導(dǎo)地位的內(nèi)存業(yè)務(wù)。
而三星在內(nèi)存制造方面的特長，也并不都與制造高級(jí)邏輯芯片直接相關(guān)。處理器的制造比內(nèi)存更復(fù)雜，產(chǎn)量更難控制，代工客戶也需要定制的解決方案，這對三星的快速擴(kuò)張?jiān)斐闪硪粋€(gè)障礙。
三星電子平澤二號(hào)生產(chǎn)線全景。 圖片來源：三星電子
事實(shí)上，臺(tái)積電與三星接連在先進(jìn)制程取得突破，讓半導(dǎo)體巨頭英特爾“壓力山大”。
今年7月，在7nm量產(chǎn)宣布延期后，該公司首次考慮通過外包生產(chǎn)芯片。
為了緩解被稱為“牙膏廠”的尷尬，英特爾高管早在2017年就曾喊話半導(dǎo)體業(yè)界，建立統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn)來命名芯片的工藝制程，如以晶體管密度為標(biāo)準(zhǔn)。
若以晶體管密度作為標(biāo)準(zhǔn)，英特爾的10nm甚至優(yōu)于對手的7nm。
在此之后，三星、臺(tái)積電開始受到“假7nm”的質(zhì)疑。
但臺(tái)積電也不甘示弱。
今年2月，臺(tái)積電營銷負(fù)責(zé)人表示，從0.35微米（350nm）開始，所謂的工藝數(shù)字就不再真正代表物理尺度了。他補(bǔ)充稱，7nm/N7只是一種行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化術(shù)語，5nm還有N5等等。
但他同樣認(rèn)為，需要尋求一種全新的、對工藝節(jié)點(diǎn)不同的描述化語言。
這也凸顯出芯片制造的復(fù)雜程度。
圖片來源：《DIGITIMES》
- 責(zé)任編輯: 呂棟
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