【文/觀察者網(wǎng) 呂棟 編輯/周遠(yuǎn)方】5G普及疊加新冠疫情帶來的“宅經(jīng)濟”需求，助推全球半導(dǎo)體行業(yè)在過去一年來快速復(fù)蘇。作為芯片制造上游光刻機領(lǐng)域的主導(dǎo)者，ASML憑借平均每臺12.6億元人民幣的極紫外光刻機（EUV），業(yè)績表現(xiàn)也接連超出預(yù)期。

繼2020年營收和凈利潤創(chuàng)下歷史新高后，ASML披露的2021年一季度財報顯示，期內(nèi)銷售額同比增長79%，凈利潤同比增長240%。雖然環(huán)比增長出現(xiàn)明顯降速，但總體已超出該公司之前的業(yè)績指引。

業(yè)績推動下，ASML在資本市場表現(xiàn)亮眼，昨夜該公司美股收漲6.25%，報665.5美元/股，較去年3月低點漲幅達235.5%，已超越英特爾躍身全球第四大半導(dǎo)體廠商，前面是臺積電、三星和英偉達。

隨著臺積電、英特爾等芯片制造商相繼宣布大規(guī)模擴產(chǎn)計劃，ASML預(yù)計2021年營收將同比增長30%。不過，ASML首席執(zhí)行官溫彼得與其合作伙伴在一周前警告稱，雖然全球各地涌現(xiàn)的半導(dǎo)體工廠會帶來不少設(shè)備訂單，但長期看將不可避免地導(dǎo)致全球范圍內(nèi)的芯片產(chǎn)能過剩，對任何人都沒有好處。

觀察者網(wǎng)梳理發(fā)現(xiàn)，過去的2020年，ASML在中國大陸的營收和出貨量均創(chuàng)下歷史新高，但高端EUV光刻機仍在等待許可。2021年一季度，該公司共向中國大陸出貨光刻機約11臺，占比15%在全球排名第三。溫彼得此前直言，美國對華出口管制將使整個供應(yīng)鏈系統(tǒng)效率降低，而美國貿(mào)易限制也會傷害自身經(jīng)濟。

阿斯麥最近五年光刻機出貨數(shù)據(jù) 制圖：觀察者網(wǎng)

當(dāng)?shù)貢r間4月21日，ASML發(fā)布2021年一季度財報，期內(nèi)凈銷售額（net sales）金額為44億歐元（約合人民幣343.7億元），同比增長78.8%，環(huán)比2020年四季度增長2.6%；凈利潤（net income）為13億歐元（約合人民幣101.5億元），同比增長240.4%，環(huán)比2020年四季度下滑1.5%；毛利率(gross margin)為53.9%，同比增長8.8個百分點，環(huán)比2020年四季度增長1.9個百分點。

ASML財報截圖

ASML總裁兼首席執(zhí)行官溫彼得（Peter Wennink）表示：“我們第一季度的銷售額達到44億歐元，毛利率達到53.9%，均超過我們的預(yù)期。銷售額和毛利率的增長主要受益于累積裝機管理銷售的增長。由于目前的高需求環(huán)境，客戶正在利用軟件升級來盡快地增加產(chǎn)能。我們在第一季度的新增訂單金額為47億歐元，其中23億歐元來自EUV系統(tǒng)訂單。”

“和三個月前相比，我們發(fā)現(xiàn)所有細(xì)分市場和產(chǎn)品組合的需求都顯著增加。數(shù)字基礎(chǔ)設(shè)施的發(fā)展伴隨長期增長的推動力包括5G，人工智能和高性能計算解決方案，推動了對邏輯和存儲業(yè)務(wù)中先進和成熟制程的需求。 我們現(xiàn)在預(yù)計2021年的收入將比去年增長30％?！睖乇说茫≒eter Wennink）表示。

財報顯示，2020年一季度，ASML實現(xiàn)系統(tǒng)設(shè)備總銷售額為31.29億歐元（約合人民幣244.4億元），其中7臺（占出貨量9.2%）極紫外光刻系統(tǒng)（EUV）的收入占比為36%（約人民幣88億元），平均每臺EUV的價格為12.6億元人民幣；期內(nèi)ASML 78%的系統(tǒng)用于邏輯制程，相比上季度增長6個百分點；KrF光刻機（光源波長為248nm）仍是ASML出貨最多的光刻系統(tǒng)，為35臺。

期內(nèi)，韓國超越中國臺灣成為ASML第一大系統(tǒng)出貨地，二者的出貨占比分別為44%和43%；中國大陸是ASML光刻系統(tǒng)第三大出貨地，占比為15%（約11臺），環(huán)比上個季度增長3個百分點；美國和日本的出貨占比分別為3%和1%。ASML在財報中提到，出貨地不包括歐洲、中東和非洲地區(qū)（EMEA），該地區(qū)占比為-6%，因為該公司買回了之前賣給客戶的兩個未使用的系統(tǒng)，并將其計入一季度的收入逆轉(zhuǎn)（reversal）。

財報截圖

ASML在介紹產(chǎn)品和業(yè)務(wù)亮點時提到，期內(nèi)在EUV光刻業(yè)務(wù)領(lǐng)域，光罩保護膜的透射率提高到90％，為客戶的大批量生產(chǎn)提供了更高的產(chǎn)量；在深紫外光刻業(yè)務(wù)（DUV）領(lǐng)域，TWINSCAN NXT:1470光刻機每小時曝光300多個晶圓，與以前的型號（XT：1460）相比，幾乎提高50％；在客戶處完成第100次DUV SNEP（系統(tǒng)整體性能升級）， SNEP產(chǎn)品為客戶提供一種低成本解決方案，可提高系統(tǒng)性能，使其與更先進的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)保持一致，從而延長系統(tǒng)的使用壽命；期內(nèi)實現(xiàn)第1000臺TWINSCAN KrF系統(tǒng)的交付。

TWINSCAN NXT:1470光刻機