【文/觀察者網(wǎng) 鄒煦晨 編輯/呂棟】

10月9日，曾因“光刻機(jī)概念”被資金熱捧的蘇大維格一度大跌13.81%。截至收盤，蘇大維格跌幅收窄至5.99%，為25.25元/股，總市值為65.56億元。

股價(jià)走勢(shì)圖，數(shù)據(jù)來(lái)源：東方財(cái)富

消息面上，10月8日晚間，蘇大維格公布了關(guān)注函回復(fù)，以及收到證監(jiān)會(huì)的立案通知。立案告知書顯示，因蘇大維格涉嫌信息披露違法違規(guī)，根據(jù)《中華人民共和國(guó)證券法》《中華人民共和國(guó)行政處罰法》等法律法規(guī)，中國(guó)證監(jiān)會(huì)決定對(duì)蘇大維格立案調(diào)查。

蘇大維格對(duì)此表示，立案調(diào)查期間，公司將積極配合中國(guó)證監(jiān)會(huì)的調(diào)查工作。

立案通知書，數(shù)據(jù)來(lái)源：公司公告

此前，蘇大維格于9月14日在互動(dòng)平臺(tái)表態(tài)“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售”，公司股價(jià)在下午開(kāi)盤后快速拉升，并最終實(shí)現(xiàn)20%漲停，收于33.12元/股，當(dāng)天成交額達(dá)到15.55億元，換手率高達(dá)25.89%。9月15日，深交所對(duì)蘇大維格發(fā)出關(guān)注函，并提出5大問(wèn)題。

資料顯示，光刻技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體、顯示面板、光電子等領(lǐng)域的產(chǎn)品制造過(guò)程中不可或缺的工藝流程之一。從曝光方式上，光刻機(jī)可以分為掩模光刻機(jī)（在運(yùn)行過(guò)程中均需要使用掩模板），包括接觸式/接近式光刻機(jī)，投影式光刻機(jī)（如DUV 和EUV）等；以及無(wú)掩模光刻機(jī)，即直寫光刻機(jī)，包括電子束光刻機(jī)、激光直寫光刻機(jī)、激光直接成像設(shè)備（LDI）等。半導(dǎo)體及平板顯示制造普遍采用“直寫光刻制作掩模+投影光刻批量復(fù)制”的工藝過(guò)程。

在監(jiān)管部門的問(wèn)詢之下，蘇大維格坦稱，一般所稱的光刻機(jī)是有掩模光刻機(jī)中的投影式光刻機(jī)，與公司所生產(chǎn)的激光直寫光刻機(jī)不屬于同一技術(shù)路線。公司所生產(chǎn)的光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)。

另外，蘇大維格于9月14日在互動(dòng)平臺(tái)回應(yīng)光刻機(jī)話題時(shí)表示，“公司光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)向國(guó)內(nèi)龍頭芯片企業(yè)的銷售，并已實(shí)現(xiàn)向日本、韓國(guó)、以色列等國(guó)家的出口；同時(shí)，公司向國(guó)內(nèi)相關(guān)芯片光刻機(jī)廠商提供了定位光柵尺部件?！?

但10月8日的回復(fù)函顯示，蘇大維格開(kāi)發(fā)生產(chǎn)的激光直寫光刻設(shè)備是一種多用途的設(shè)備，目前主要是自用，公司對(duì)外銷售的金額較小，2022 年實(shí)現(xiàn)對(duì)外銷售收入約770.93 萬(wàn)元，2023 年上半年實(shí)現(xiàn)對(duì)外銷售收入約 2,177.27 萬(wàn)元，客戶主要包括兩類：第一類是高校和科研院所，其采購(gòu)公司光刻設(shè)備主要是用作相關(guān)領(lǐng)域的研究。第二類客戶是除高校和科研院所外的其他客戶，主要包含各類企業(yè)客戶，其采購(gòu)公司光刻設(shè)備主要用于其部分產(chǎn)品的研發(fā)及小批量試制、微納光學(xué)材料及光通訊器件的制作等領(lǐng)域。

從銷售區(qū)域來(lái)看，蘇大維格光刻設(shè)備收入以境內(nèi)為主。2022年境外收入為310.09萬(wàn)元，2023年上半年則為0。

銷售區(qū)域摘要，數(shù)據(jù)來(lái)源：回復(fù)函

回復(fù)函顯示，蘇大維格光刻設(shè)備目前不涉及集成電路領(lǐng)域相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)，這部分市場(chǎng)被行業(yè)龍頭公司主導(dǎo)和壟斷。蘇大維格光刻設(shè)備主要為自用于各類微納光學(xué)產(chǎn)品和衍射光學(xué)器件的制造，對(duì)外銷售金額較小，外部客戶采購(gòu)主要用于相關(guān)領(lǐng)域的研發(fā)、試制和微納光學(xué)材料等生產(chǎn)。蘇大維格激光直寫光刻設(shè)備在最小線寬、線寬均勻度、網(wǎng)格精度、穩(wěn)定性等關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)與同行業(yè)龍頭公司相比存在較大差距。

在監(jiān)管層的問(wèn)詢下，蘇大維格表示，公司證券部門在回復(fù)相關(guān)互動(dòng)易問(wèn)題時(shí)，直接使用了“光刻機(jī)”、“龍頭芯片公司”等可能引起誤解的表述，未能充分考慮到部分投資者可能對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)路線、相關(guān)技術(shù)的具體應(yīng)用領(lǐng)域等情況不了解，未詳細(xì)說(shuō)明公司光刻設(shè)備的具體類型，公司主要的應(yīng)用領(lǐng)域，與行業(yè)龍頭企業(yè)的差距，以及客戶主要用途等信息；也未說(shuō)明相關(guān)設(shè)備收入占公司收入比重較低，未充分提示相關(guān)風(fēng)險(xiǎn)。前述回復(fù)引起了部分投資者誤會(huì)和誤解，并導(dǎo)致公司股價(jià)發(fā)生較大波動(dòng)，對(duì)此，公司及公司證券部門誠(chéng)懇向投資者表示歉意，并將積極吸取經(jīng)驗(yàn)教訓(xùn)，進(jìn)一步完善相關(guān)制度和程序，持續(xù)學(xué)習(xí)相關(guān)產(chǎn)業(yè)政策和文件，努力提升與投資者互動(dòng)溝通的嚴(yán)謹(jǐn)性與信息傳遞的完整性，不斷提升公司信息披露水平。

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