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我國科學(xué)家另辟蹊徑造出9納米光刻試驗樣機(jī)
關(guān)鍵字:據(jù)科技日報15日報道,從武漢光電國家研究中心獲悉,該中心甘棕松團(tuán)隊采用二束激光在自研的光刻膠上突破了光束衍射極限的限制,采用遠(yuǎn)場光學(xué)的辦法,光刻出最小9納米線寬的線段,實現(xiàn)了從超分辨成像到超衍射極限光刻制造的重大創(chuàng)新。光刻機(jī)是集成電路生產(chǎn)制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備,主流深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻機(jī)主要由荷蘭ASML公司壟斷生產(chǎn),屬于國內(nèi)集成電路制造業(yè)的“卡脖子”技術(shù)。
- 原標(biāo)題:我國科學(xué)家另辟蹊徑造出9納米光刻試驗樣機(jī)
- 責(zé)任編輯:李丕
- 最后更新: 2019-04-16 06:48:32
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