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SK海力士在華擴張DRAM生產線
關鍵字:(觀察者網訊)
據(jù)韓國《中央日報》4月19日消息,SK海力士4月18日發(fā)布稱在中國無錫舉行了DRAM流水線C2F的竣工儀式。C2F在原有DRAM半導體流水線(C2)的基礎上進行擴建,建筑面積達到5.8萬平方米。
圖自韓媒
在以“芯的飛躍、芯的未來”為主題的當日竣工儀式上,無錫市委書記李小敏、江蘇省副省長郭元強、韓國駐上??傤I事崔泳杉、SK海力士公司總裁李錫熙和合作商總裁等500人出席了活動。
SK海力士2004年與中國江蘇省無錫市簽署建廠協(xié)議,從2006年開始生產DRAM。當時建成的C2流水線是SK海力士的第一個300毫米晶片工廠(FAB),為SK海力士的發(fā)展起到了重大作用。FAB是半導體工廠的通稱。
隨著半導體工程的精細化發(fā)展,工程程序日益復雜,設備也日益大型化,工廠空間開始擁擠,于是SK海力士從2017年6月開始投資擴建半導體生產廠房(無塵車間),截至本月共投入了9500億韓元。SK海力士負責無錫工廠的姜英秀(音)專務表示,“C2F的竣工使無錫工廠擁有了中長期競爭力”,“C2F將與現(xiàn)在的C2工廠一同運轉,最大限度擴大無錫工廠的生產和運轉效率”。
一位業(yè)界相關人士表示,“這次擴建將無錫工廠的DRAM產能從原來的12萬張晶片提高到了18萬張”,“中國工廠產能占SK海力士DRAM總產能的比例也將提高到40~50%”。
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- 責任編輯:何書睿
- 最后更新: 2019-04-19 16:25:38
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