汪波北京大學深圳研究生院信息工程學院助理教授
2020年,經(jīng)過17年的研發(fā),EUV光刻機終于開始用于5納米節(jié)點的工藝制造。然而,光刻精度即將達到極限,對于半導體產(chǎn)業(yè)的未來,人們早已開始尋找其他解決路徑,這可以概括為“擴展摩爾”和“超越摩爾”。[全文]
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