【文/觀察者網(wǎng) 呂棟】

在跟美國(guó)政府達(dá)成協(xié)議1個(gè)多月后，當(dāng)?shù)貢r(shí)間3月8日，荷蘭政府以“國(guó)家安全”為由，宣布將對(duì)包括“最先進(jìn)的”深紫外光刻機(jī)（DUV）在內(nèi)的特定半導(dǎo)體制造設(shè)備實(shí)施新的出口管制。

這意味著，荷蘭方面已將光刻機(jī)出口管制的范圍，由極紫外光刻機(jī)（EUV）擴(kuò)大到了DUV。

由于DUV仍占很大出貨比重，荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML很快發(fā)布聲明，稱該公司需要申請(qǐng)?jiān)S可證，才能出口最先進(jìn)的浸沒式DUV光刻機(jī)，但新的出口管制，并不適用于所有的浸沒式DUV，而只是針對(duì)“最先進(jìn)的”。

ASML官網(wǎng)截圖

根據(jù)路透社等外媒的報(bào)道，當(dāng)?shù)貢r(shí)間3月8日晚間，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾（Liesje Schreinemacher）在致荷蘭議員的一封信中稱，“鑒于技術(shù)發(fā)展和地緣政治背景，政府得出結(jié)論，為了（國(guó)際）國(guó)家安全，有必要擴(kuò)大對(duì)特定半導(dǎo)體制造設(shè)備的現(xiàn)有出口管制。”

施賴納馬赫爾宣稱，荷蘭政府希望阻止荷蘭技術(shù)被用于軍事系統(tǒng)或大規(guī)模殺傷性武器（這與美國(guó)去年10月實(shí)施出口管制的理由類似），同時(shí)希望保持“荷蘭的技術(shù)領(lǐng)先地位”，為此將建立國(guó)家出口管制清單。

這封信并未提及任何國(guó)家和公司，但美國(guó)政治新聞網(wǎng)站《政客》（Politico）認(rèn)為，荷蘭此舉是迫于美國(guó)的壓力。就在本月初中荷外長(zhǎng)會(huì)面時(shí)，荷蘭外交大臣胡克斯特拉還表示，荷蘭將繼續(xù)根據(jù)本國(guó)利益在具體項(xiàng)目上獨(dú)立作出判斷。

實(shí)施新出口管制，顯然會(huì)對(duì)荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)造成影響，尤其是光刻機(jī)巨頭ASML。施賴納馬赫爾在前述信中透露，新的出口管制措施包括最先進(jìn)的DUV，這些措施將在今年夏天之前實(shí)施。

觀察者網(wǎng)查詢ASML財(cái)報(bào)發(fā)現(xiàn)，2022年，EUV光刻機(jī)僅占該公司出貨量的10%，DUV仍是出貨主力。

ASML財(cái)報(bào)截圖

考慮到DUV仍然有龐大的出貨量，ASML也迅速對(duì)新的出口管制做出回應(yīng)。該公司在一份聲明中稱，這些新出口管制主要針對(duì)先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積和浸沒式光刻工具。

由于這些即將出臺(tái)的法規(guī)，ASML將需要申請(qǐng)出口許可證才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸沒式DUV系統(tǒng)。

ASML在聲明中強(qiáng)調(diào)，新出口管制并不適用于所有的浸入式光刻工具，而只適用于所謂“最先進(jìn)的”，并且這些管控措施轉(zhuǎn)化為立法并生效還需要時(shí)間。

雖然ASML尚未收到任何關(guān)于“最先進(jìn)”確切定義的更多細(xì)節(jié)，但該公司將其解釋為“關(guān)鍵的浸沒式系統(tǒng)”（critical immersion），即“資本市場(chǎng)日”中定義的TWINSCAN NXT:2000i和后續(xù)推出的浸沒式系統(tǒng)。

這或許意味著，TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟的浸沒式DUV機(jī)型不在受限范圍。

ASML主流浸沒式DUV設(shè)備 官網(wǎng)截圖

觀察者網(wǎng)查詢方正證券2020年6月發(fā)布的研報(bào)發(fā)現(xiàn)，TWINSCAN NXT:2000i DUV（雙工作臺(tái)深紫外光刻機(jī)）曾是ASML最先進(jìn)的浸沒式光刻系統(tǒng)，也是EUV光刻機(jī)之前的重要過渡產(chǎn)品，同時(shí)是后期7nm/5nm產(chǎn)能的重要補(bǔ)充。這種機(jī)型在2018年就已開始出貨，被視為可用于生產(chǎn)7nm等制程。

在復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院2022年5月發(fā)表的一篇論文中，作者提到，在沒有獲得極紫外光刻機(jī)（EUV）的情況下，芯片代工廠都是利用浸沒式DUV光刻機(jī)，多次曝光實(shí)現(xiàn)7nm邏輯芯片的光刻工藝流程。

ASML光刻機(jī)型號(hào)（資料圖）

ASML官網(wǎng)顯示，TWINSCAN NXT:2000i專為與EUV混合使用而設(shè)計(jì)，可為高級(jí)邏輯和DRAM節(jié)點(diǎn)的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配。比這款光刻機(jī)更先進(jìn)的型號(hào)是TWINSCAN NXT:2050i，該系統(tǒng)滿足多種圖案化要求，為在高級(jí)邏輯和DRAM節(jié)點(diǎn)制造300毫米晶圓提供經(jīng)濟(jì)高效的解決方案。

在前述聲明中，這家荷蘭光刻機(jī)巨頭提到，主要關(guān)注成熟制程的客戶，可以使用不太先進(jìn)的浸沒式光刻工具，因此最新的出口管制并未影響該公司2023年的財(cái)務(wù)前景。

但不能自由出貨，ASML在華收入不可避免受干擾。該公司預(yù)計(jì)2023年中國(guó)大陸銷售額將保持在22億歐元左右（約合人民幣162億元），而全球總銷售額將增長(zhǎng)25%，因?yàn)橹饕蛻襞_(tái)積電和英特爾都在擴(kuò)產(chǎn)。

根據(jù)ASML財(cái)報(bào)，2022年該公司共出貨345臺(tái)光刻系統(tǒng)，其中有81臺(tái)浸沒式DUV光刻機(jī)（ArFi），占比為23%。所有產(chǎn)品中，42%銷往中國(guó)臺(tái)灣，29%銷往韓國(guó)，14%銷往中國(guó)大陸，銷往美國(guó)的只有7%。

今年2月，在接受歐洲媒體對(duì)話時(shí)，ASML首席執(zhí)行官溫彼得直言，如果美國(guó)及其盟友切斷中國(guó)（大陸）獲得某些半導(dǎo)體和半導(dǎo)體制造技術(shù)的渠道，中國(guó)將被迫加倍努力開發(fā)自主技術(shù)。他坦言，雖然出口管制是合法工具，但不應(yīng)該被濫用，決策者在“擺弄”半導(dǎo)體供應(yīng)鏈之前應(yīng)充分了解它的復(fù)雜性。

“重要的公司應(yīng)該知道自己面臨著什么，并有時(shí)間適應(yīng)新規(guī)則?！焙商m外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾在前述致議員的信中稱，荷蘭政府已經(jīng)決定采取“盡可能謹(jǐn)慎和精確的措施……避免不必要的價(jià)值鏈中斷。”

路透社援引所謂國(guó)外消息人士稱，日本最快也將于本周發(fā)布最新芯片設(shè)備出口政策。

針對(duì)今年1月美日荷三國(guó)達(dá)成對(duì)華出口限制的協(xié)議，中國(guó)半導(dǎo)行業(yè)協(xié)會(huì)曾發(fā)布聲明稱，此舉如果成為現(xiàn)實(shí)，在對(duì)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)造成巨大傷害的同時(shí)，也將對(duì)全球產(chǎn)業(yè)及經(jīng)濟(jì)造成難以估量的傷害，對(duì)全球最終消費(fèi)者的利益造成長(zhǎng)期傷害。中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)反對(duì)這一破壞現(xiàn)有全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)生態(tài)的行為。

中國(guó)外交部發(fā)言人毛寧也曾回應(yīng)指出，美國(guó)為了維護(hù)自己霸權(quán)和私利，濫用出口管制，脅迫、誘拉一些國(guó)家組建遏制中國(guó)的小圈子，將經(jīng)貿(mào)科技問題政治化、武器化，嚴(yán)重破壞市場(chǎng)規(guī)則和國(guó)際經(jīng)貿(mào)秩序。中方對(duì)此堅(jiān)決反對(duì)，也希望有關(guān)方面從自身的長(zhǎng)遠(yuǎn)利益和國(guó)際社會(huì)的共同利益出發(fā)，審慎行事。

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