（文/觀察者網(wǎng) 呂棟）去年底公開其“5nm刻蝕機(jī)已獲臺(tái)積電認(rèn)可”的中微公司，已經(jīng)獲得批量訂單。

在中微公司（688012.SH）日前發(fā)布的2019年財(cái)報(bào)中，相比于108%的凈利潤(rùn)增速，更值得關(guān)注的是其透露：“根據(jù)先進(jìn)集成電路廠商的需求，已開發(fā)出5nm刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工，并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單?！?

目前，5nm制程是集成電路制造領(lǐng)域最先進(jìn)的工藝，雖然三星和臺(tái)積電均宣稱已掌握該工藝，但現(xiàn)在已量產(chǎn)出貨的僅后者一家，并計(jì)劃在二季度放量。

對(duì)5nm產(chǎn)能的爭(zhēng)奪異常激烈。觀察者網(wǎng)此前報(bào)道，由于海思調(diào)降向臺(tái)積電的5nm訂單，相關(guān)產(chǎn)能已被蘋果“盡數(shù)吃掉”。后者還要求臺(tái)積電今年第四季度追加近1萬(wàn)片產(chǎn)能，與AMD等爭(zhēng)奪5nm產(chǎn)能。

中微公司招股書截圖

除此之外，中微公司還公開稱，其電容性等離子體介質(zhì)刻蝕設(shè)備已應(yīng)用于64層閃存器件的量產(chǎn)，正在開發(fā)新一代涵蓋128層和更先進(jìn)關(guān)鍵刻蝕應(yīng)用的刻蝕設(shè)備和工藝。

而長(zhǎng)江存儲(chǔ)早在2018年已成為中微公司第三大客戶，當(dāng)時(shí)，前者占其營(yíng)收比重為11%。

值得注意的是，雖然中微公司的刻蝕設(shè)備已在國(guó)際市場(chǎng)擁有一席之地，但全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)目前仍由國(guó)外廠商主導(dǎo)，行業(yè)呈現(xiàn)高度壟斷的競(jìng)爭(zhēng)格局，2018年前五大廠商占據(jù)的市場(chǎng)份額超過65%。

在2019年業(yè)績(jī)說明會(huì)上，中微公司董事長(zhǎng)尹志堯坦言：對(duì)于一些最高端的刻蝕應(yīng)用，其刻蝕機(jī)還有不足的地方，還需進(jìn)一步技術(shù)創(chuàng)新和設(shè)備的升級(jí)，該公司正在開發(fā)新一代的刻蝕機(jī)。

自去年7月登陸科創(chuàng)板以來，中微公司股價(jià)漲幅達(dá)97%接近翻倍，市值840億元。今日中微公司收跌2.34%，報(bào)155.96元/股。

“5nm刻蝕設(shè)備獲領(lǐng)先客戶批量訂單”

觀察者網(wǎng)梳理發(fā)現(xiàn)，在集成電路產(chǎn)業(yè)中，設(shè)備主要包括晶圓制造設(shè)備、封裝設(shè)備和測(cè)試設(shè)備等，其中晶圓制造設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模占比超過集成電路設(shè)備整體市場(chǎng)規(guī)模的80%。

而晶圓制造設(shè)備從類別上講可以分為刻蝕、光刻、薄膜沉積、檢測(cè)、涂膠顯影等十多類，其合計(jì)投資總額通常占整個(gè)晶圓廠投資總額的75%左右，其中刻蝕設(shè)備、光刻設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備是集成電路前道生產(chǎn)工藝中最重要的三類設(shè)備，三者分別占晶圓制造設(shè)備價(jià)值量的24%、23%和18%。

中微公司招股書截圖

2019年財(cái)報(bào)顯示，中微公司等離子體刻蝕設(shè)備已用在國(guó)內(nèi)外廠商55nm到5nm的眾多芯片生產(chǎn)線上。

據(jù)中微公司介紹，根據(jù)先進(jìn)集成電路廠商的需求，其已開發(fā)出5納米刻蝕設(shè)備用于若干關(guān)鍵步驟的加工，并已獲得行業(yè)領(lǐng)先客戶的批量訂單。其目前正在配合客戶需求，開發(fā)新一代刻蝕設(shè)備和包括更先進(jìn)大馬士革在內(nèi)的刻蝕工藝，能夠涵蓋5納米以下刻蝕需求和更多不同關(guān)鍵應(yīng)用的設(shè)備。

2019年財(cái)報(bào)截圖

值得注意的是，目前公開稱掌握5nm制程的僅有臺(tái)積電和三星兩家。

臺(tái)積電5nm工藝目前已量產(chǎn)出貨，第二季度將擴(kuò)大生產(chǎn)；三星預(yù)計(jì)今年6月底左右完成5nm產(chǎn)線建設(shè)，量產(chǎn)時(shí)間要等到今年底或明年初。

圖自富途證券

事實(shí)上，早在2018年底，中微公司就曾對(duì)外透露，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于后者的全球首條5nm制程生產(chǎn)線。

值得一提的是，中微公司也是唯一進(jìn)入臺(tái)積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸半導(dǎo)體設(shè)備商。根據(jù)公開報(bào)道，該公司與臺(tái)積電在28nm制程時(shí)便已開始合作，并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。

中微公司曾在招股書中介紹，由于其開發(fā)出與美國(guó)設(shè)備公司具有同等質(zhì)量和相當(dāng)數(shù)量的等離子體刻蝕設(shè)備并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，美國(guó)商務(wù)部在2015年宣布解除了對(duì)中國(guó)等離子體刻蝕設(shè)備多年的出口管制。

因此，也有部分自媒體借此炒作其董事長(zhǎng)為“中國(guó)最強(qiáng)牛人”。

該公司此前回應(yīng)指出，個(gè)別媒體虛構(gòu)部分不實(shí)情節(jié)并冠以夸張的標(biāo)題，該等不實(shí)的內(nèi)容在集成電路業(yè)界產(chǎn)生了較大的負(fù)面影響，同時(shí)也使其業(yè)務(wù)開展及其董事長(zhǎng)尹志堯個(gè)人受到困擾。

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